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    E+H導波雷達物位計

        

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    品牌E+H 有效期至長期有效 最后更新2022-03-11 14:42
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    E+H導波雷達物位計

    E+H導波雷達物位計
    仲宇
    QQ:3254435935  點擊這里給我發消息
    手機:13002495941
    電話:010-64714988-225
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    郵件:tk9@handelsen.cn
    仲宇郵箱:tk9@handelsen.cn電話:010-64714988-225 仲宇微信二維碼
    名稱:  E+H導波雷達物位計
    型號:  E+H
    品牌:  E+H
    產地:  德國
     
      E+H 導波雷達物位計適用于所有液位測量和界面測量的基本應用,產品結構有6部分組合成:電子腔外殼、過程連接(法蘭)、纜式探頭、探頭末端的配置快、桿式探頭、同軸探頭。物位計改善和提高了化工、石油及天然氣、制藥、能源、源水和污水、食品、散料處理、紙漿及造紙、造船和海上運輸等領域的過程效益。
     
      E+H 導波雷達物位計優點:
     
      1、 可靠的測量值,測量值不受介質變化、溫度變化、氣體覆蓋或蒸汽的影響;
     
      2、 適用性強,內置數據存儲器;
     
      3、 直觀的菜單引導式操作,多種語言可選
     
      4、 便于集成到控制或資產管理系統中
     
      5、 精確的測量和過程診斷,便于快速決策
     
      E+H 導波雷達物位Levelflex分為9個系列:FMP50、FMP51、FMP52、FMP53、FMP54、FMP55、FMP56、FMP57。
     
      Levelflex FMP50適用于溫度、壓力或耐腐蝕性要求不高的測量場合,是儲罐以及公用設施等基本型應用的最佳選擇。采用多回波追蹤創新技術,為測量結果帶來高度可靠性,用于液體、漿料和泥漿的連續物位測量。
     
      Levelflex FMP51適用于過程工業極端工況下的液位測量,如高溫、高壓等場合。硬件與軟件根據IEC 61508標準開發,達到SIL3級別,主要用于液體、漿料和泥漿的連續物位測量以及界面測量。
     
      Levelflex FMP52帶涂層的探桿,適用于腐蝕性液體測量,所有的接液部件均采用FDA認證的材質,用于液體、漿料和泥漿的連續性物位測量,也用于界面測量。
     
      Levelflex FMP53用于衛生要求高的食品和生命科學行業的連續物位測量,符合ASME BPE和USP VI級的衛生要求。FMP53不需要從過程中拆除,可在原位清洗,具有獨特的成本優勢。
     
      Levelflex FMP54特別適用于油氣、化工和電力等行業的高溫高壓測量場合。采用陶瓷-石墨密封的過程連接,能保證在高溫高壓場合的使用安全同時,氣密饋通能提供更高的安全性。在高壓的帶氣相層的液位測量中,只有帶氣相補償技術的FMP54才能提供準確可靠的測量結果。
     
      Levelflex FMP55適用于界面測量,采用傳感器融合技術,是全球首創的融合電容測量和導向雷達技術為一體的儀表。FMP55能確保在有乳劑層的工況下,連續穩定的獲得液位和界面測量值。FMP55多參數儀表在界面測量領域,特別是石油天然氣、化工和石化行業成為新的標桿產品。
     
      Levelflex FMP56適用于固體散料物位測量的經濟、高效的基本型儀表,即使在粉塵嚴重的狹窄貯倉或有障礙物的船艙,FMP56也能提供最穩定的測量值。是用于粉狀、粒狀等固體散料連續物位測量。
     
      Levelflex FMP57適用于固體散料物位測量,滿足最高測量要求,是高貯倉、高煤倉或堆場等測量場合的最佳選擇。FMP57提供長達45米的纜式探桿,適合高貯倉的測量。
     
      E+H 導波雷達物位計測量原理:
     
      Levelflex是基于ToF原理(行程時間)工作的“俯視式”測量系統。測量參考點至介質表面間的距 離。向探頭發射高頻脈沖信號,信號沿探頭傳播。脈沖信號在介質表面發生反射,反射信號被儀 表接收,并被轉換成物位信息。此測量方法即為TDR法(時域反射法)。
     
      E+H 導波雷達物位計測量原理:
     
      是依據時域反射原理(TDR)為基礎的雷達物位計,雷達物位計的電磁脈沖以光速沿鋼纜或探棒傳播,當遇到被測介質表面時,雷達物位計的部分脈沖被反射形成回波并沿相同路經返回到脈沖發射裝置,發射裝置與被測介質表面的距離同脈沖在其間的傳播時間成正比,經計算得出液位高度。
     
      E+H 導波雷達物位計界面測量:
     
      高頻脈沖信號到達介質表面,僅部分脈沖信號發生反射。上層介質的介電常數DC1較小時,未發 生反射的脈沖信號將沿探頭繼續向下傳播。在兩種介質的界面處發生第二次反射(在下層介質的介 電常數DC2大于上層介質的介電常數)?;谛谐虝r間原理可以確定儀表至界面間的距離。同時, 還需要考慮脈沖信號在上層介質中傳播的延遲時間。介質的介電常數(DC)直接影響高頻脈沖信號的反射率。測量大介電常數(DC)的介質時(例如:水和 氨水),脈沖反射信號強;相反,測量小介電常數(DC)的介質時(例如:碳氫化合物),脈沖反射信 號弱。
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